钽颗粒是一种金属钽的粉末状态，化学符号为Ta，属于钢灰色金属，具有极高的抗腐蚀性。钽的熔点为2996℃，沸点为5425℃，原子序数为73，位于元素周期表的VB族。钽在冷热条件下对盐酸、浓硝酸及王水都不反应，显示出其优良的化学稳定性。钽颗粒的应用广泛，包括但不限于作为电子束蒸发的材料、添加剂或实验用，以及作为高纯度钽镀膜颗粒等。
钽颗粒的纯度对其应用很重要。高纯度的钽颗粒在真空镀膜过程中被广泛使用，因为其高纯度能够减少杂质对镀膜质量的影响，保证材料表面的均匀性和稳定性。此外，钽颗粒还具有良好的机械性能，能够增加镀膜层的强度和硬度，提高材料的耐磨损性。在真空镀膜技术中，高纯度钽颗粒不仅用作镀膜材料的制备原料，还作为催化剂的载体，从而提高材料表面的耐腐蚀性和附着力。
真空镀膜技术是一种常用的表面处理技术，已广泛应用于电子、光学、材料等领域。通过真空蒸发或溅射金属、合金或化合物并将其沉积在被镀膜物体上，形成固体薄膜，从而改善或获得特定表面特性。钽颗粒的高纯度和良好的机械性能使其成为真空镀膜技术的理想选择。
